氧化膜厚度计算：阳极氧化生成的氧化膜厚度从理论上可按法拉第第二定律推导的公式进行计算。σ= Kit。式中σ为阳极氧化膜厚度（μm），I为电流密度（A/dm2），t 为氧化时间（min），K为系数（当氧化铝密度γ=kg/立方米则K=0.309）。上述公式计算的前提是以认为通过的电量全用于氧化铝析出，同时也把氧化铝及膜的密度视为纯净的氧化铝密集的值。但实际情况并非完全如此，为了使K值更切合实际，应将电流效率和在这种工艺条件下所生成膜的密度或孔隙度考虑在内，即：K = 1.57η/γ式中η为电流效率（电极上实际析出的物质量与又总电量换算出的析出物质量之比）。K实值各国取值大小各异。阳极氧化是在铝及其合金表面上生成装饰及保护膜的一种过程。吴中光面阳极氧化单位
铬酸阳极氧化：氧化过程中应经常进行浓度分析，适时添加铬酐。电解的阴极材料可用铅、铁、不锈钢，好的阳阴面积比为（5：1）-（10：1）。当溶液中三价铬离子多时，可用电解的方法使其氧化成六价铬离子。溶液中的硫酸盐含量超过0.5%，阳极氧化效果不好，硫酸根离子多时可加入氢氧化钡或者碳酸钡使其生成硫酸钡沉淀。溶液中氯化物含量不应超过0.2g/L。溶液中铬含量超过70g/L时就应稀释或更换溶液。铬酸阳极氧化有电压周期变化的阳极氧化方法或恒电压阳极氧化法（快速铬酸法）两种。吴中高耐磨阳极氧化品质阳极氧化按电解液分有：硫酸、草酸、铬酸、混合酸和以磺基有机酸为主溶液的自然着色阳极氧化。
阳极氧化与导电氧化区别：1、阳极氧化是在通高压电的情况下进行的，它是一种电化学反应过程;而导电氧化(又叫化学氧化)不需要通电，只需要在水里浸泡就行了，它是一种纯化学反应。2、阳极氧化需要的时间很长，往往要几十分钟，而导电氧化只需要短短的几十秒。3、阳极氧化生成的膜有几个微米到几十个微米，并且坚硬耐磨；导电氧化生成的膜**0.01—0.15微米，耐磨性不是很好，但是既能导电又耐大气腐蚀，这就是它的优点。4、氧化膜本来都是不导电的，但因为导电氧化生成的膜实在是很薄，所以就是导电的了。
阻挡层是又无水的氧化铝所组成，薄而致密，具有高的硬度和阻止电流通过的作用。阻挡层厚约0.03-0.05μm，为总膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外层主要是又非晶型的氧化铝及小量的水合氧化铝所组成，此外还含有电解液的阳离子。当电解液为硫酸时，膜层中硫酸盐含量在正常情况下为13%-17%。氧化膜的大部分优良特性都是由多孔外层的厚度及孔隙率所觉决定的，它们都与阳极氧化条件密切相关。直流电硫酸阳极氧化：在硫酸电解液中阳极氧化，作为阳极的铝制品，在阳极化初始的短暂时间内，其表面受到均匀氧化，生成极薄而有非常致密的膜。将金属或合金的制件作为阳极，采用电解的方法使其表面形成氧化物薄膜。
硬质阳极氧化：一、操作条件方面的差异：1、温度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加剂的可以到30℃，温度过高易出现粉末或裂纹；硬质氧化一般在5℃以下，相对来说温度越低硬质越高。2、浓度差异：普通氧化一般20%左右；硬质氧化一般在15%或更低。3、电流/电压差异：普通氧化电流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬质氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化电压≤18V，硬质氧化有时高达120V。二、膜层性能方面的差异：1、膜层厚度：普通氧化膜层厚度相对较薄；硬质氧化一般膜层厚度>15μm，过低达不到硬度≥300HV的要求。2、表面状态：普通氧化表面较光滑，而硬质阳极氧化表面较粗糙（微观，和基体表面粗糙度有关）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬质氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬质氧化由于膜厚，为不透明膜。5、适用场合不同：普通氧化适用于装饰为主；而硬质氧化以功能为主，一般用于耐磨、耐电的场合。 所谓铝的阳极氧化是一种电解氧化过程。吴中高耐磨阳极氧化品质
阳极氧化的氧化膜的孔径在100nm~200nm之间。吴中光面阳极氧化单位
金属表面在各种热处理、机械加工、运输的过程中，不可避免地会产生腐蚀、随着油污和杂质等，产生氧化现象，这就需要进行表面处理。通常金属合金表面处理会选择电镀或者阳极氧化。铝合金阳极氧化技术是目前应用广且成功的，阳极氧化可以改善铝合金表面硬度、耐磨损性等指标。氧化膜薄层中具有大量的微孔，可吸附各种润滑剂，适合制造发动机气缸或其他耐磨零件；膜微孔吸附能力强可着色成各种美观艳丽的色彩。有色金属或其合金（如铝、镁及其合金等）都可进行阳极氧化处理，这种方法普遍用于机械零件，飞机汽车部件，精密仪器及无线电器材，日用品和建筑装饰等方面。吴中光面阳极氧化单位
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