阳极氧化基本参数
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硬质阳极氧化是铝及铝合金表面生成厚而坚硬氧化膜的一种工艺方法。硬质膜的较大厚度可达250μm,纯铝上形成的膜层微硬度为12000-15000MPa,合金的一般为4000-6000MPa,与硬铬镀层的相差无几,它们在低符合时耐磨性好,硬质膜的孔隙率约为20%左右,比常规硫酸膜低。瓷质阳极氧化:瓷质阳极氧化铝及铝合金在草酸、柠檬酸和硼酸的钛盐、锆盐或钍盐溶液中阳极氧化,溶液中盐类金属的氢氧化物进入氧化膜孔隙中,从而使制品表面显示出与不透明而致密的搪瓷或具有特殊光泽的类似塑料外观的处理过程。瓷质阳极氧化处理工艺流程与常规硫酸阳极氧化基本一致,不同的是瓷质阳极氧化是在高的直流电压(115-125V)和较高的溶液温度(50-60度)、电解液经常搅拌、经常调节pH值使之处于1.6-2范围内的条件进行昆山显荣电子工业有限公司致力于提供阳极氧化,欢迎您的来电!太仓高光阳极氧化厂

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阳极氧化与电镀有哪些区别?1.处理方法不同.电镀是将待电镀材料作为阴极,与镀层金属的相同的金属材料作为阳极(亦有采用不溶性阳极),电解液为含有的镀层金属离子的溶液;阳极与阴极间输入一定的电流。镀层材料与待电镀的材料是不同的两种材料,如铍铜镀镍,铍铜为基材,镍为镀层。阳极氧化利用化学或电化学处理,运用阳极氧化设备,使金属表面生成一种含有该金属成份的皮膜层。待处理的材料作为阳极,在特定的电解液中通过外加电流使其表面形成膜层的一种材料保护。如铝合金氧化,在是在铝合金表面形成一层氧化铝的薄膜,氧化铝化学性稳定,不会再氧化,不受酸腐蚀,还可以染成各种颜色。2.处理对象不同.电镀方法处理的对象主要是金属,也可以是非金属。常使用的电镀镀层金属为镍、铬、锡、铜、银及金等。也就是经常说的镀镍、镀铬、镀金等。3.阳极氧化处理是金属表面处理的方法。大多数金属材料(如不锈钢、锌合金、铝合金、镁合金、铜合金、钛合金)都可以在适宜的电解液中进行阳极氧化处理。江苏哑光阳极氧化报价昆山显荣电子工业有限公司是一家专业提供阳极氧化的公司,有想法的可以来电!

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铝阳极氧化的封闭工艺:铝氧化膜是多孔性膜,无论有没有着色处理,在投入使用前都要进行封闭处理,这样才能提高其耐蚀性和耐候性。处理的方法有三类,即高温水化反应封闭、无机盐封闭和有机物封闭等:(1)高温水封闭这种方法是利用铝氧化膜与水的水化反应,将非晶质膜变为水合结晶膜:水化反应在常温和高温下都可以进行,但是在高温下特别是在沸点时,所生成的水合结晶膜是非常稳定的不可逆的结晶膜,因此,常用的铝氧化膜的封闭处理就是沸水法或蒸汽法处理。(2)无机盐封闭无机盐法可以提高有机着色染料的牢度,因此在化学着色法中常用。①醋酸盐法②硅酸盐法(3)有机封闭法这是对铝氧化膜进行浸油、浸漆或进行涂装等,由于成本较高并且增加了工艺流程,因此不大采用,较多的还是用前述的两类方法,并且以第一种高温水合法为主流。

铬酸阳极氧化:氧化过程中应经常进行浓度分析,适时添加铬酐。电解的阴极材料可用铅、铁、不锈钢,好的阳阴面积比为(5:1)-(10:1)。当溶液中三价铬离子多时,可用电解的方法使其氧化成六价铬离子。溶液中的硫酸盐含量超过0.5%,阳极氧化效果不好,硫酸根离子多时可加入氢氧化钡或者碳酸钡使其生成硫酸钡沉淀。溶液中氯化物含量不应超过0.2g/L。溶液中铬含量超过70g/L时就应稀释或更换溶液。铬酸阳极氧化有电压周期变化的阳极氧化方法或恒电压阳极氧化法(快速铬酸法)两种。昆山显荣电子工业有限公司为您提供阳极氧化,欢迎您的来电哦!

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阳极氧化的氧化膜的孔径在100nm~200nm之间,氧化膜厚度10微米左右,孔隙率20%左右,孔距300~500nm之间。氧化膜的截面图表明氧化膜孔基本上是管状结构,氧化膜发生溶膜反应基本上是在孔的底部发生的。而一般的硫酸直流阳极氧化膜的孔径是20nm左右,如果是12微米的氧化膜,那是多深的细管状结构啊!假设这是一个直径1m的井,那么它的井深将有600m深。氧化膜的绝大部分优良特性,如抗蚀、耐磨、吸附、绝缘等性能都是由多孔外层的厚度及孔隙率所决定的,然而这两者却与阳极氧化条件密切相关,因此可通过改变阳极化条件来获得满足不同使用要求的膜层。膜厚是阳极氧化制品一个很主要的性能指针,其值的大小直接影响着膜层耐蚀、耐磨、绝缘及化学着色能力。在常规的阳极氧化过程中,膜层随着时间的增加而增厚。在逹到较大厚度之后,则随着处理时间的延长而逐渐变薄,有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表现得特别明显。因此,氧化的时间一般控制在逹较大膜厚时间之内。昆山显荣电子工业有限公司致力于提供阳极氧化,有想法的可以来电!安徽铝阳极氧化哪家好

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硬质阳极氧化:一、操作条件方面的差异:1、温度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加剂的可以到30℃,温度过高易出现粉末或裂纹;硬质氧化一般在5℃以下,相对来说温度越低硬质越高。2、浓度差异:普通氧化一般20%左右;硬质氧化一般在15%或更低。3、电流/电压差异:普通氧化电流密度一般:1-1.5A/dm2;而硬质氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化电压≤18V,硬质氧化有时高达120V。二、膜层性能方面的差异:1、膜层厚度:普通氧化膜层厚度相对较薄;硬质氧化一般膜层厚度>15μm,过低达不到硬度≥300HV的要求。2、表面状态:普通氧化表面较光滑,而硬质阳极氧化表面较粗糙(微观,和基体表面粗糙度有关)。3、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高;而硬质氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜;硬质氧化由于膜厚,为不透明膜。5、适用场合不同:普通氧化适用于装饰为主;而硬质氧化以功能为主,一般用于耐磨、耐电的场合。太仓高光阳极氧化厂

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