硬质氧化基本参数
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硬质氧化企业商机

硬质氧化的氧化处理的温度:温度是影响氧化膜质量的重要因素之一。严格控制温度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。电流密度:电流也是影响氧化膜质量的重要因素之一,它与氧化膜的生成速度、氧化膜的组织有较大关系.电流密度过低时,氧化膜的生成速度缓慢,处理时间增加;反之,过高时,会导致溶液和电极因焦耳效应而过热.使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。初始电压与处理时间:硬质阳极氧化处理的初始电压与时间对氧化膜质量的影响也是很大的.初始电压过大,会导致电流的增加,焦耳热和生成热剧增,促使溶解速度猛增,氧化膜则软,无光泽,起粉,不耐磨.对于氧化处理时间,一般是随着氧化处理时间的延长,氧化膜厚度增加,但到一定时间后,若不增加外加电压,氧化膜实际不增加.如果继续延长时间,则氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化处理时间太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。昆山显荣电子工业有限公司为您提供硬质氧化,期待为您服务!上海铝型材硬质氧化质量

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硬质阳极氧化和普通阳极氧化的区别:硬质氧化的氧化膜有50%渗透在铝合金内部,50%附着在铝合金表面,因此硬质氧化后产品外部尺寸变大,内孔变小。一、操作条件方面的差异:1、温度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加剂的可以到30℃,温度过高易出现粉末或裂纹;硬质氧化一般在5℃以下,相对来说温度越低硬质越高。2、浓度差异:普通氧化一般20%左右;硬质氧化一般在15%或更低。3、电流/电压差异:普通氧化电流密度一般:1-1.5A/dm2;而硬质氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化电压≤18V,硬质氧化有时高达120V。二、膜层性能方面的差异:1、膜层厚度:普通氧化膜层厚度相对较薄;硬质氧化一般膜层厚度>15μm,过低达不到硬度≥300HV的要求。2、表面状态:普通氧化表面较光滑,而硬质氧化表面较粗糙(微观,和基体表面粗糙度有关)。3、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高;而硬质氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜;硬质氧化由于膜厚,为不透明膜。5、适用场合不同:普通氧化适用于装饰为主;而硬质氧化以功能为主,一般用于耐磨、耐电的场合。上海铝型材硬质氧化质量昆山显荣电子工业有限公司为您提供硬质氧化,有需要可以联系我司哦!

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为了得到质量较好的硬质阳极氧化膜,并能保证零件所需要尺寸,必须按下列要求来进行加工:1、表面光洁度。硬质阳极氧化后,零件表面的光洁度是有所改变的,对于较粗糙的表面来说,经此处理后可以显得比原来平整一些,而对于原始光洁度较高的零件来说,往往经过此种处理后,显示的表面光洁光亮度反而有所降低,降低的幅度在1~2级左右。2、尺寸余量。因硬质氧化膜的厚度较高,所以如需要进一步加工的铝零件或以后需要装配的零件,应事先留有一定的加工余量,及指定装夹部位。因硬质阳极氧化时,要改变零件尺寸,故在机械加工时,要事先预测,氧化膜的可能厚度和尺寸公差,而后在确定硬质氧化前的零件实际尺寸,以便处理后,符合规定的公差范围。

因硬质阳极氧化的零件在氧化过程中,要承受很高的电压和较高的电流,硬质氧化厂家提示一定要使夹具和零件能保持极良好的接触,否则将因接触不良而造成击穿或烧伤零件接触部位的毛病。所以要求对不同形状的零件,以及零件氧化后的具体要求来设计和制造夹具。如在同一个零件上,既有普通阳极氧化又要有硬质阳极氧化的部位因根据零件的光洁度和精密度来安排具体工序。通常先进行普通的阳极氧化,在进行硬质阳极氧化,把不需要进行硬质阳极氧化的表面加以绝缘,绝缘的方法有用喷枪或毛刷,将以配制好硝基胶或过氢乙烯胶涂抹于不需要处理的表面,绝缘层要涂的薄而均匀,每涂一层应在低温下干燥30~60分钟共涂2~4层即可。昆山显荣电子工业有限公司于提供硬质氧化,欢迎您的来电!

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零件硬质阳极氧化表面出现白斑的原因:一、腐蚀产物形貌与成分分析。对螺纹深孔底端的内表面进一步观察分析,深孔内部铬酸硬质氧化膜层出现明显的腐蚀现象,主要的腐蚀模式为点蚀,腐蚀坑洞直径多在10um以内。点蚀坑内部及其周围发现大量的腐蚀产物:同时,在螺纹深孔底端的内表面存在片状的腐蚀产物脱落及典型的龟裂状“泥纹花样”。腐蚀产物的EDAX检测结果表明:其中的化学元素包括少量的外来元素氯和硫。二、膜层形貌与成分分析。利用扫描电子显微镜及X射线能谱仪对铝合金连接座零件表面的铬酸硬质氧化膜层进行深入分析。在无白斑出现的区域对表面进行观察,发现铬酸硬质氧化膜正常区域的膜层宏观表面非常致密,并无异常的宏观孔洞缺陷,其SEM形貌及EDAX成分分析结果。硬质氧化,就选昆山显荣电子工业有限公司,欢迎客户来电!上海铝型材硬质氧化质量

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