可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜,如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5等;金属和合金膜如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等;用ITO、AZO等陶瓷靶...
真空镀膜技术的发展趋势: 科技发展愈来愈快,信息高速公路,数字地球等新概念的提出,影响和带动了全球高科技的发展,目前,生命科学,环保科技,材料科学和纳米科技是高科技重点研究的领域;纳米科技中又以纳米...
磁控溅射技术的工艺历史发展: 1852年,格洛夫发现了阴极溅射,由于该方法要求工作气压高、基体温升高和沉积速率低等,阴极溅射在生产中并没有得到普遍的应用。20世纪三十年代,J.Chapin发明了平衡磁...
磁控溅射工艺具备以下特点: 1、沉积速率大。由于采用高速磁控电极,可获得的离子流很大,有效提高了此工艺镀膜过程的沉积速率和溅射速率。与其它溅射镀膜工艺相比,磁控溅射的产能高、产量大、于各类工业生产中得...
真空镀膜机常见故障及处理方法: 一.检测不到掩膜夹具翻转信号: 1、检查翻面信号源位置 2、将翻面输入信号人工短接,使用翻面检测功能,计算机能检测到信号时,证明问题在翻面控制开关上,根据情况做相应处理...
高能脉冲磁控溅射:自瑞典科学家采用高能脉冲作为磁控溅射的供电模式并沉积了Cu薄膜后,HPPMS自以其较高的金属离化率在近几年受到普遍关注,高能脉冲磁控溅射技术是利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比...
电阻蒸发源蒸镀法: 采用钽,钼,钨等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让气流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入氧化铝,氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发,这就是电...
磁控溅射镀膜的产品特点: 1、磁控溅射所利用的环状磁场迫使二次电子跳栏式地沿着环状磁场转圈.相应地,环状磁场控制的区域是等离子体密度的部位.在磁控溅射时,可以看见溅射气体——氩气在这部位发出强烈的淡蓝...
PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多,发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节...
扩散泵在长期工作后性能会逐渐变坏,应定期检查。如:泵油是否减少或氧化,按相应要求加油或更换处理;零件及泵腔先用航空汽油清洗,然后用进行擦洗,并置于80-100摄氏度温度下烘干或用电吹风吹干。处理完后,...
薄膜均匀性概念: 1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内...
真空镀膜机是目前制作真空条件应用较为普遍的真空设备,一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成,排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司专业从事真空镀膜设备...